Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾

作者 | 發布日期 2017 年 04 月 25 日 8:30 | 分類 光電科技 , 晶片 , 材料、設備 follow us in feedly

根據 《路透社》 的報導,日本光學大廠尼康(Nikon) 於 24 日表示,已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)和合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss AG)提起法律訴訟,並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影(lithography)技術專利用於光刻機上,並運用在半導體製造業中。




報導進一步表示,世界第 8 大芯片設備製造商 Nikon 在 24 日指出,已經在荷蘭、德國和日本針對生產半導體光刻機的荷蘭廠商 ASML 和旗下光電供應商 Carl Zeiss 提起了專利侵權案件。Nikon 在一份聲明中指出,ASML 和 Carl Zeiss 在沒有得到許可的情況之下,採用了 Nikon 的專利技術,運用在 ASML 的光刻機中。而光刻機是用在全球的半導體製造業中先進製程不可缺少的設備,如此以進一步侵犯了 Nikon 的專利。Nikon 表示,正在尋求損害賠償,並防止 ASML 和 Carl Zeiss 出售該技術。

目前在全球的半導體設備市場中,ASML 主導半導體光刻機的產品。根據惠譽評級(Fitch Ratings)在 2017 年 1 月的一份研究報告中指出,這家荷蘭公司在這樣的高階的半導體設備中,佔有 90% 的市場占有率。而根據 ASML 在 19 日所公布的 2017 年第 1 季財報顯示,第 1 季營收淨利達 19.4 億歐元,毛利率為 47.6%,EUV 極紫外光微影系統的未出貨訂單則累積到 21 台,價值高達 23 億歐元。而且預估 ASML 在 2017 第 2 季營收淨利將落在 19 到 20 億歐元之間,毛利率約為 43% 到 44%。

ASML 的總裁兼執行長 Peter Wennink 對於 Nikon 所發起的訴訟表示,Nikon 所提起的訴訟不但不必要,還毫無根據。而且,這還將對於全球半導體產業造成不確定性。他進一步指出表示,ASML 已多次嘗試與 Nikon 協商延長交叉許可協議。

Nikon 則表示,法律訴訟是在由美國退休法官於 2016 年底進行的調解未成之後所決定發起的。而根據 Nikon 的說法,提起訴訟的 3 項微影技術專利,ASML 和 Carl Zeiss 兩家公司分別在 2004 年支付 Nikon 8,700萬 美元和 5,800 萬美元的授權金。授權期限在 2009 年到期,而 2014 年底其專利權的過渡期也到期之後,雙方在 2016 年底經過調解協商延長交叉許可協議未成。

(首圖來源:ASML)