目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下，大家都寄望藉由極紫外光微影設備（EUV）協助製程向前發展，也使摩爾定律（Moore’s Law）再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾（ASML）來說，因為製造難度，已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出，艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因，就是來自光學鏡頭供應商蔡司（Carl Zeiss）供貨進度跟不上需求所致。
外媒報導指出，艾司摩爾 EUV 的光學鏡頭是德國蔡司公司生產，但蔡司的鏡頭供貨量不足，導致艾司摩爾 EUV 極紫外光微影設備生產進度緩慢。據了解，7 月艾司摩爾出具報告，至今已積了多達 21 台 EUV 訂單，每台 EUV 訂單成本高達 1.5 億美元，而 2017 年底前最多只能交付 8 到 9 台 EUV 設備。
報導指出，根據外界預估，三星和台積電都宣布將在 2018 年試生產內含 EUV 技術的圓晶製程，使 2017 年 EUV 設備的銷售金額預計達 14.82 億美元，這比 2016 年的 10.36 億美元足足成長了 43%，且這個數字在 2019 年還將進一步上升到 30 億美元。
艾司摩爾的客戶都是一些半導體大廠，比如台積電、三星、英特爾（Intel）等，如果拿不到 EUV 設備，新世代製程的生產計畫必定會受影響，誰也不想看到這樣的情況發生。據了解，目前 EUV 設備生產還面臨一些問題需調整。除了蔡司鏡頭供應不足，還有晶片保護膜仍需改進。
現階段，在三星和台積電都宣佈將試產內含 EUV 技術的圓晶，反觀半導體大廠 Intel 的態度則不疾不徐。雖然 Intel 不是目前第一個採用 EUV 技術量產圓晶的企業，但將來 Intel 或許會是買最多 EUV 設備的公司。
2017 年三星資本支出已達 170 億美元，Intel 則是 120 億，台積電也有 100 億元，最少的是格羅方德，只有 25 億美元。但所有廠商在 EUV 部分的花費總共才 14.82 億元。預估 2019 年這個數字會進一步上升至 30 億美元，Intel 為加速步伐，並與競爭對手抗衡，將會較大程度的採購 EUV 設備來強化技術，這就是關鍵手段之一。
（首圖來源：艾司摩爾）
