目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下，大家都寄望藉由極紫外光微影設備（EUV）協助製程向前發展，也使摩爾定律（Moore’s Law）再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾（ASML）來說，因為製造難度，已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出，艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因，就是來自光學鏡頭供應商蔡司（Carl Zeiss）供貨進度跟不上需求所致。
本篇文章將帶你了解 :艾司摩爾 EUV 設備生產不順，原因是卡爾蔡司鏡頭供應不足
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艾司摩爾 EUV 設備生產不順，原因是卡爾蔡司鏡頭供應不足 |
作者
Atkinson |
發布日期
2017 年 10 月 12 日 17:55 |
分類
GPU
, 國際貿易
, 晶片
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目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下，大家都寄望藉由極紫外光微影設備（EUV）協助製程向前發展，也使摩爾定律（Moore’s Law）再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾（ASML）來說，因為製造難度，已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出，艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因，就是來自光學鏡頭供應商蔡司（Carl Zeiss）供貨進度跟不上需求所致。
