艾司摩爾 EUV 設備生產不順,原因是卡爾蔡司鏡頭供應不足

作者 | 發布日期 2017 年 10 月 12 日 17:55 | 分類 GPU , 國際貿易 , 晶片 follow us in feedly


目前半導體製程已微縮到 10 奈米以下,大家都寄望藉由極紫外光微影設備(EUV)協助製程向前發展,也使摩爾定律(Moore’s Law)再往下延伸。不過就目前生產 EUV 設備的艾司摩爾(ASML)來說,因為製造難度,已積壓了大量訂單在手上。有國外媒體指出,艾司摩爾 EUV 設備生產不順的主因,就是來自光學鏡頭供應商蔡司(Carl Zeiss)供貨進度跟不上需求所致。

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