晶圓代工大廠三星宣布，正式開始使用其 7 奈米 LPP 製程製來生產晶圓。三星的 7 奈米 LPP 製程中使用極紫外光刻（EUV）技術，這將使三星 7 奈米 LPP 製程能夠明顯提升晶片內的電晶體密度，同時優化其功耗。此外，EUV 技術的使用還能使客戶減少每個晶片所需的光罩數量，在降低生產成本下，還能縮短其生產的時間。
三星表示，7 奈米 LPP 製程在同樣的複雜度下，相較前一代的 10 奈米 FinFET 製程，可以減少 40% 的晶片面積，同時降低 50% 的功耗，並且使效能提升提高 20%。另外，在生產成本上面，因為 7 奈米 LPP 製程加入了 EUV 技術，在採用 13.5nm 波長來曝光矽晶圓的情況下，相較過去採用 193nm 波長來進行曝光的傳統的氟化氬（ArF）浸沒技術，EUV 技術只需要單個光罩就能完成單層矽晶圓的曝光，而傳統 ArF 則需要 4 個光罩來處理。所以，7 奈米 LPP 製程不僅降低了生產成本，還縮短了生產時間。
三星進一步指出，三星發展 EUV 技術開始於 2000 年代，透過三星與領先業界的設備供應商進行合作，在其生產設施中設計和安裝全新設備，以確保 EUV 技術生產下的晶圓穩定性。目前，最初的 EUV 技術生產製程已經在三星位於韓國華城的 S3 Fab 開始，而到 2020 年之際，三星希望透過內建 EUV 技術的新製程，為需要大量生產下一代晶片的 IC 設計業者提供更大的產能。而且，三星還因為導入 EUV 技術，進一步開發了專有設備。例如獨特的光罩檢測工具，可在 EUV 光罩中執行早期缺陷檢測，使得可以在製造生產的早期消除缺陷，提升良率。
三星還表示，新一代的 7 奈米 LPP 製程將瞄準包括 5G、人工智慧、企業和超大規模資料中心、物聯網、汽車和網路等應用的需求。此外，三星的 Advanced Foundry Ecosyste 也為導入內建 EUV 技術的 7 奈米 LPP 製程做好了準備。也就是，整個產業的生態系統合作夥伴，將提供包括基礎和高級 IP、高級包裝和服務，以使三星客戶能夠在這個新平台上開發他們的產品。目前，提供這些服務的廠商包括 Ansys、Arm、Cadence、Mentor、SEMCO、Synopsys 和 VeriSilicon 等，供應包括 HBM2 / 2E、GDDR6、DDR5、USB 3.1、PCIe 5.0 和 112G SerDes 等介面 IP 解決方案。
不過，三星這次沒有透露其首個採用其 7 奈米 LPP 製程的客戶名稱，僅表示使用新製程的第一批晶片將會是針對行動和 HPC 應用為主。不過，依照過去的經驗，三星電子會是半導體代工部門的第一個採用新製程技術的客戶。因此，預計到 2019 年，三星將會將推出一款智慧型手機使用的自有品牌 7 奈米製程處理器。此外，目前三星代工事業的重要客戶高通，預計也將會採用新的 7 奈米 LPP 製程技術來生產「Snapdragon 5G」行動處理器。
（首圖來源：三星官網）
