三星正式宣布開始量產內建 EUV 技術 7 奈米 LPP 製程

作者 | 發布日期 2018 年 10 月 18 日 10:00 | 分類 國際貿易 , 手機 , 晶片 follow us in feedly


晶圓代工大廠三星宣布,正式開始使用其 7 奈米 LPP 製程製來生產晶圓。三星的 7 奈米 LPP 製程中使用極紫外光刻(EUV)技術,這將使三星 7 奈米 LPP 製程能夠明顯提升晶片內的電晶體密度,同時優化其功耗。此外,EUV 技術的使用還能使客戶減少每個晶片所需的光罩數量,在降低生產成本下,還能縮短其生產的時間。

三星表示,7 奈米 LPP 製程在同樣的複雜度下,相較前一代的 10 奈米 FinFET 製程,可以減少 40% 的晶片面積,同時降低 50% 的功耗,並且使效能提升提高 20%。另外,在生產成本上面,因為 7 奈米 LPP 製程加入了 EUV 技術,在採用 13.5nm 波長來曝光矽晶圓的情況下,相較過去採用 193nm 波長來進行曝光的傳統的氟化氬(ArF)浸沒技術,EUV 技術只需要單個光罩就能完成單層矽晶圓的曝光,而傳統 ArF 則需要 4 個光罩來處理。所以,7 奈米 LPP 製程不僅降低了生產成本,還縮短了生產時間。

三星進一步指出,三星發展 EUV 技術開始於 2000 年代,透過三星與領先業界的設備供應商進行合作,在其生產設施中設計和安裝全新設備,以確保 EUV 技術生產下的晶圓穩定性。目前,最初的 EUV 技術生產製程已經在三星位於韓國華城的 S3 Fab 開始,而到 2020 年之際,三星希望透過內建 EUV 技術的新製程,為需要大量生產下一代晶片的 IC 設計業者提供更大的產能。而且,三星還因為導入 EUV 技術,進一步開發了專有設備。例如獨特的光罩檢測工具,可在 EUV 光罩中執行早期缺陷檢測,使得可以在製造生產的早期消除缺陷,提升良率。

三星還表示,新一代的 7 奈米 LPP 製程將瞄準包括 5G、人工智慧、企業和超大規模資料中心、物聯網、汽車和網路等應用的需求。此外,三星的 Advanced Foundry Ecosyste 也為導入內建 EUV 技術的 7 奈米 LPP 製程做好了準備。也就是,整個產業的生態系統合作夥伴,將提供包括基礎和高級 IP、高級包裝和服務,以使三星客戶能夠在這個新平台上開發他們的產品。目前,提供這些服務的廠商包括 Ansys、Arm、Cadence、Mentor、SEMCO、Synopsys 和 VeriSilicon 等,供應包括 HBM2 / 2E、GDDR6、DDR5、USB 3.1、PCIe 5.0 和 112G SerDes 等介面 IP 解決方案。

不過,三星這次沒有透露其首個採用其 7 奈米 LPP 製程的客戶名稱,僅表示使用新製程的第一批晶片將會是針對行動和 HPC 應用為主。不過,依照過去的經驗,三星電子會是半導體代工部門的第一個採用新製程技術的客戶。因此,預計到 2019 年,三星將會將推出一款智慧型手機使用的自有品牌 7 奈米製程處理器。此外,目前三星代工事業的重要客戶高通,預計也將會採用新的 7 奈米 LPP 製程技術來生產「Snapdragon 5G」行動處理器。

(首圖來源:三星官網)