就在台積電與三星陸續將晶圓製造先進製程推向 7 奈米節點之際，全球半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）也表示，在 2018 年預計出貨總共 18 台極紫外光光刻機（EUV）之後，2019 年更將把出貨量提升到 30 台。而且，還將在 2019 年下半年推出效能較前一代 EUV 提升 24% 的全新機款，以逐步滿足市場需求。
根據 ASML 日前所公布的 2018 年第 3 季財報指出，該季營收達到 27.8 億歐元，其中，設備銷售營收為 20.81 億歐元，安裝管理服務等業務營收達 6.95 億歐元，數字較第 2 季成長 13.4%，較 2017 年同期也成長 1%。毛利率達到了 48.1%，相較第 2 季增加 5.2 個百分點，較 2017 年同期也增加了 4.8 個百分點。
以 EUV 的銷售情況來看，ASML 在第 3 季總共出貨了 5 台 EUV，而第 2 季則是出貨 7 台 EUV，在預計第 4 季還將出貨 6 台 EUV 的情況下，全年總計將出貨的數量將達到 18 台，還預計 2019 年 EUV 的出貨數量將放大到 30 台。另外，而在 EUV 的銷售中，南韓公司的占銷售金額比重 33%，台灣公司占比為 30%，而中國公司的銷售占比則為 18%。這樣的數字，相較第 2 季的情況，南韓公司下降 2 個百分點，台灣公司則是提升了 12 百分點，而中國公司則是下跌 1 個百分點。
而就 2019 年整體 EUV 預估出貨的情況來分析，除了 EUV 出貨數量將大幅成長之外，ASML 在 2019 年下半年還將推出效能進一步強化的 NXE:3400C 型 EUV 光刻機，其每小時處理的晶圓數量（WPH）將能達到 155 片，較目前的 NXE:3400B 型 EUV 光刻機的 WPH 能達成 125 片的效能來說，NXE:3400C 型的產能預計將提升 24%，這對改善 EUV 製程的產能將很有幫助。
不過，雖然將推出新一代 NXE:3400C 型 EUV 光刻機，其效能較上一代 EUV 能提升 24%。但是，要全面取代傳統的氟化氬（ArF）沉浸式光刻機，可能還有一段時間。因為，即便新一代 NXE:3400C 型 EUV 光刻機能達到 155 WPH 的產能，但是相較現在的（ArF）沉浸式光刻機產能可達 250 WPH 來說，EUV 光刻機的產能還有一大段距離要努力。所以，要全面取代目前仍為時尚早。
（首圖來源：艾司摩爾官網）
