艾司摩爾 2019 年 EUV 出貨將達 30 台,還將推效能提升 24% 新機型

作者 | 發布日期 2018 年 10 月 19 日 10:00 | 分類 國際貿易 , 材料、設備 , 財經 follow us in feedly

就在台積電與三星陸續將晶圓製造先進製程推向 7 奈米節點之際,全球半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)也表示,在 2018 年預計出貨總共 18 台極紫外光光刻機(EUV)之後,2019 年更將把出貨量提升到 30 台。而且,還將在 2019 年下半年推出效能較前一代 EUV 提升 24% 的全新機款,以逐步滿足市場需求。




根據 ASML 日前所公布的 2018 年第 3 季財報指出,該季營收達到 27.8 億歐元,其中,設備銷售營收為 20.81 億歐元,安裝管理服務等業務營收達 6.95 億歐元,數字較第 2 季成長 13.4%,較 2017 年同期也成長 1%。毛利率達到了 48.1%,相較第 2 季增加 5.2 個百分點,較 2017 年同期也增加了 4.8 個百分點。

以 EUV 的銷售情況來看,ASML 在第 3 季總共出貨了 5 台 EUV,而第 2 季則是出貨 7 台 EUV,在預計第 4 季還將出貨 6 台 EUV 的情況下,全年總計將出貨的數量將達到 18 台,還預計 2019 年 EUV 的出貨數量將放大到 30 台。另外,而在 EUV 的銷售中,南韓公司的占銷售金額比重 33%,台灣公司占比為 30%,而中國公司的銷售占比則為 18%。這樣的數字,相較第 2 季的情況,南韓公司下降 2 個百分點,台灣公司則是提升了 12 百分點,而中國公司則是下跌 1 個百分點。

而就 2019 年整體 EUV 預估出貨的情況來分析,除了 EUV 出貨數量將大幅成長之外,ASML 在 2019 年下半年還將推出效能進一步強化的 NXE:3400C 型 EUV 光刻機,其每小時處理的晶圓數量(WPH)將能達到 155 片,較目前的 NXE:3400B 型 EUV 光刻機的 WPH 能達成 125 片的效能來說,NXE:3400C 型的產能預計將提升 24%,這對改善 EUV 製程的產能將很有幫助。

不過,雖然將推出新一代 NXE:3400C 型 EUV 光刻機,其效能較上一代 EUV 能提升 24%。但是,要全面取代傳統的氟化氬(ArF)沉浸式光刻機,可能還有一段時間。因為,即便新一代 NXE:3400C 型 EUV 光刻機能達到 155 WPH 的產能,但是相較現在的(ArF)沉浸式光刻機產能可達 250 WPH 來說,EUV 光刻機的產能還有一大段距離要努力。所以,要全面取代目前仍為時尚早。

(首圖來源:艾司摩爾官網)