
就在台積電與三星陸續將晶圓製造先進製程推向 7 奈米節點之際,全球半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)也表示,在 2018 年預計出貨總共 18 台極紫外光光刻機(EUV)之後,2019 年更將把出貨量提升到 30 台。而且,還將在 2019 年下半年推出效能較前一代 EUV 提升 24% 的全新機款,以逐步滿足市場需求。
艾司摩爾 2019 年 EUV 出貨將達 30 台,還將推效能提升 24% 新機型 |
作者
Atkinson |
發布日期
2018 年 10 月 19 日 10:00 |
分類
國際貿易
, 會員專區
, 材料、設備
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就在台積電與三星陸續將晶圓製造先進製程推向 7 奈米節點之際,全球半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)也表示,在 2018 年預計出貨總共 18 台極紫外光光刻機(EUV)之後,2019 年更將把出貨量提升到 30 台。而且,還將在 2019 年下半年推出效能較前一代 EUV 提升 24% 的全新機款,以逐步滿足市場需求。
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