台積電 7 奈米+ 良率已與 7 奈米相當,6 奈米 2020 年第 1 季量產

作者 | 發布日期 2019 年 10 月 08 日 8:50 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片 follow us in feedly


晶圓代工龍頭台積電宣布,其領先業界導入極紫外光(EUV)微影技術之 7 奈米強效版(N7+)製程已協助客戶產品大量進入市場。而導入 EUV 微影技術的 N7+ 製程奠基於台積電成功的 7 奈米製程上,為 6 奈米和更先進製程奠定良好基礎。而 6 奈米製程則將在 2020 年第 1 季正式進入量產。

台積電表示 N7+ 製程的量產速度為史上量產速度最快的製程之一,於 2019 年第 2 季開始量產,在 7 奈米製程技術(N7)量產超過一年時間的情況下,N7+ 良率與 N7 已相當接近。而且,N7+ 製程同時提供了整體效能的提升,N7+ 的邏輯密度比 N7 提高 15%~20%,並同時降低功耗,成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。台積電亦快速布建產能以滿足多個客戶對於 N7+ 製程的需求。

台積電強調,EUV 微影技術使台積電能夠持續推動晶片微縮,因 EUV 的較短波長能更完美解析先進製程設計。台積電 EUV 設備已達成熟生產的實力,EUV 設備機台亦達大量生產的目標,在日常運作的輸出功率都大於 250 瓦。

台積電業務開發副總經理張曉強表示,AI 和 5G 的應用為晶片設計開啟了更多的可能,使其得以許多新的方式改善人類生活。而台積電的客戶充滿了創新及領先的設計理念,需要台積電的技術和製造能力使其實現。台積電在 EUV 微影技術的成功,是台積電不僅能夠具體落實客戶的領先設計,同時憑藉卓越的製造能力,亦能使其大量生產的另一個絕佳證明。

N7+ 製程的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積電 6 奈米製程技術(N6)將於 2020 年第 1 季進入試產,並於年底前進入量產。隨著 EUV 微影技術的進一步應用,N6 製程的邏輯密度將比 N7 提高 18%,而 N6 製程將憑藉著與 N7 完全相容的設計法則,亦可大幅縮短客戶產品上市的時間。

(首圖來源:台積電)