從三星與 SK 海力士調整 EUV 策略，看出兩家公司經營處境

韓國兩大半導體大廠三星和 SK 海力士對極紫外線（EUV）微影技術採取不同策略，引起業界關注。兩家 EUV 不同政策正值高度市場競爭時刻，能看出各自處境。

韓國媒體 BusinessKorea 報導，組織重整計畫，三星全球製造和基礎設施總部下成立新工作小組（TF）名為「EUV Synergy TF」，視為提高先進製程良率的舉動。EUV Synergy TF 任務是管理 EUV 設備，提高微影曝光和追蹤設備使用率，目標是最大限度提高 EUV 各種材料和零件良率，包括艾司摩爾 (ASML) 獨家 200 億美元的微影曝光機，以及東京電子 (TEL) EUV 軌道。

三星承諾大量投資 EUV，華城和平澤廠都購置 30 多台 EUV，以 13.5 奈米波長光源將半導體電路印製至晶圓，對生產較小較複雜的半導體電路至關重要。三星 2019 年將 EUV 導入製程，後來也提高第六代 10 奈米級 DRAM 生產。

SK 海力士今年卻解散 EUV TF，併入未來技術研究院，突顯 SK 海力士關注長期技術進步，而不是提高產量。SK 海力士 2021 年 EUV 生產第四代 10 奈米級 DRAM，目前利川 M16 工廠有十多台 EUV。SK 海力士未來技術研究所預估準備導入下代 EUV，即 High-NA EUV，最快 2025 下半年收到第一台 High-NA EUV。

韓國市場人士表示，三星將 EUV 用於改善良率與提高產能，表示代工與 HBM 落後的三星急於尋找突破處。SK 海力士則用於技術發展，為保持領先地位，並為將來做好準備，可看出兩家公司面臨不同的挑戰。

(首圖來源：ASML)