因應 AI 市場成長,美光今年試產使用 EUV 的 1γ 製程

作者 | 發布日期 2024 年 07 月 05 日 9:40 | 分類 公司治理 , 半導體 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
因應 AI 市場成長,美光今年試產使用 EUV 的 1γ 製程


與其他半導體大廠不同,記憶體商美光 (Micron) 並不急於導入 EUV (極紫外光),所有量產都只用 DUV (深紫外光) 生產,但最終還是無法避免用到 EUV,暫定今年 10 奈米級 1γ 製程以 EUV 試產,2025 年量產。

美光執行長 Sanjay Mehrotra 財報會議時說,EUV 生產 10 奈米級 1γ 製程 DRAM 試產順利,按計畫 2025 年量產。美光正在日本廣島工廠開發 EUV 生產 10 奈米級 1γ 製程 DRAM,也是首批 1γ 記憶體試產地。

美光不斷改善 EUV 生產力,1α 和 1β 製程強化 EUV 和非 EUV 良率和品質,除了 EUV 生產 1γ 和 1δ,幾年內打算發展 3D DRAM 架構,以及 DRAM 的 High-NA EUV 生產。

財報會議時美光公布截至 5 月 30 日第三季業績,AI 持續高速發展,除儲存解決方案需求更攀升,美光資料中心營收如虎添翼外,總營收更達 68.1 億美元,較 2023 年同期大幅增加 81.6%,優於分析師預期 66.7 億美元。展望截至 8 月底的第四季,預計營收 74 億至 78 億美元,區間中位數基本符合分析師預期 75.8 億美元。

(首圖來源:科技新報)

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