2023 年末，曝光機大廠 ASML 向英特爾運交機首套 High-NA EUV 曝光機，型號為 TWINSCAN EXE:5000。業界普遍認為，High-NA EUV 將對先進晶片開發和下代處理器生產發揮關鍵作用。不過最近又有變化，各晶圓代工廠都在減少依賴 High-NA EUV，延後導入時間。特別是英特爾董事發言，讓市場對 High-NA EUV 前景產生更多疑問。
Wccftech 報導，近期有投資機構下調 ASML 目標價，從 795 歐元降至 759 歐元，代表每股獲利減少約 5%，因 High-NA EUV 市場需求放緩，同時調低 ASML 2026 和 2027 年營收預估。但 ASML 股票投資評等沒有變仍為「買入」。
照不願意透露姓名的英特爾董事說法，新電晶體設計如 GAAFET 和 CFET，可降低曝光機重要性。這些設計是從四面包裹柵極，更偏用蝕刻去除多餘材料，而不是增加晶圓曝光時間以縮小電路尺寸。晶片生產時橫向重要性日益增加，High-NA EUV 重要性就沒那麼重要了。
長遠看，人工智慧（AI）浪潮帶動晶片發展，投資機構對 ASML 產品的長期需求仍保持樂觀，因晶片普遍採用最新半導體製程，市場對曝光設備的需求仍處於上升趨勢。ASML 7 月 16 日公布 2025 年第二季財報，屆時可了解營收狀況與未來營收變化，了解接下來全球曝光機市場展望。
(首圖來源：ASML)
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