根據韓國中央日報引述 TechInsights 的報導指出，晶片製造大廠英特爾 （Intel） 在研發 （R&D） 投入上遙遙領先其競爭對手三星和台積電，金額超過 160 億美元。然而，儘管投入大量資金，但英特爾仍努力掙扎於推出具競爭力的晶片製程技術。
報導指出，英特爾的研發支出高達約 165.5 億美元。作為少數同時投資於晶片設計和製造能力的晶片製造商之一，英特爾的這一投入規模在半導體業界中顯得異常突出。這些龐大的投資金額，主要為推動該公司的 intel 18A 節點製程的技術突破所帶動。之前有市場報告指出，英特爾的 intel 18A 節點製程有著良率不穩定良率和產能不足等問題。
事實上，一直以來在美國半導體製造產業中，英特爾被視為重要資產，這也促使該公司必須維持其高額的研發費用支出，以確保能提供有實力的最終解決方案。在前執行長 Pat Gelsinger 的領導下，英特爾的晶圓代工部門據稱已投入了數百億美元於其晶片製程開發中。然而，從財務角度來看，英特爾的大量的資金支出並未如預期般帶來成果，其晶圓代工部門已連續多季虧損。因此，儘管研發支出龐大，英特爾的晶片製造進展仍顯得緩慢，未能趕上競爭對手的步伐。
除了英特爾之外，其他先進晶片製造商也在研發上投入巨資，顯示了在 2 奈米等先進節點 競爭中，需要數百億美元，甚至更高的資金投入。其中在韓國三星的部分，2024 年在研發方面的投入也大幅增加，金額達到 95億美元，較 2023 年成長了 71%。這項投資的成長，主要來自於與 2 奈米等高階節點製程有關，並整合了如 GAA（Gate-All-Around） 等先進技術所致。然而，與英特爾類似，三星目前也尚未在高階節點製程方面取得預期的產能和成果。
至於，屬於IC設計專業的 GPU 大廠輝達，其在研發支出排名上僅次於英特爾，2024 年達到了 125 億美元。而輝達的主要合作夥伴台積電，則以 63.6 億美元的研發支出金額位居半導體大廠研發支出金額的第七位。
報導表示，這些資料凸顯了高階晶片製造領域的競爭日益激烈和成本高昂。對於英特爾、三星等公司來說，儘管投入了數百億美元的研發資金，但將這些投資轉化為具有競爭力、高良率的先進製程技術，仍是當前最大的挑戰。當前也因為全球半導體產業正處於一個高風險、高回報的時代，以及技術突破和市場領導地位的爭奪時期，因此預計將繼續帶動這些大廠投入天文數字般的研發資金，以期達到自己期望的市場目標。
(首圖來源：英特爾)
科技新報粉絲團
加入好友
訂閱免費電子報
