銳澤半導體展秀兩大集塵方案!周谷樺:正積極進行送樣階段

作者 | 發布日期 2025 年 09 月 11 日 17:23 | 分類 半導體 , 國際觀察 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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銳澤半導體展秀兩大集塵方案!周谷樺:正積極進行送樣階段

全球半導體年度盛會 SEMICON Taiwan 2025 第二日,銳澤實業今年參展呈現環保高效能的「肘管集塵裝置 ECD(Elbow Capture Device)」與「粉塵捕捉器 PCD(Powder Capture Device)」,總經理周谷樺表示,目前正積極與客戶進行新式粉塵設備送樣階段。

周谷樺表示,這兩大集塵方案,專為應對半導體製造 Sub-Fab 端長期存在的粉塵堆積與管道堵塞問題而生,有望大幅提升製程良率、降低非預期停機風險,並顯著優化營運成本,目前正積極與客戶進行新式粉塵設備送樣階段,預計將有助於增添未來在手訂單表現。

周谷樺指出,隨著全球半導體晶圓廠、記憶體等持續擴產,先進製程技術演進對於設備與服務日益嚴謹與規格大幅提升等趨勢明確,銳澤趁勢推出「肘管集塵裝置 ECD」,巧妙設計於 Dry pump 出口處,透過獨特的位移式換管機制,結合集塵與清潔功能,大幅降低水電及廢氣處理成本。

周谷樺分享,再來是高效能的「粉塵捕捉器 PCD」,主要是解決 SubFab 端管道粉塵堵塞導致的無預警當機問題,以及現有灑水式 Local Scrubbe r對於先進製程中 PM2.5 以下微細粉塵去除效率不佳的挑戰。

周谷樺認為,隨著半導體製程線寬不斷縮小,對微粒控制的要求日益嚴苛,傳統的粉塵處理方式已難以滿足先進製程的需求,銳澤的粉塵捕捉器採用創新的「主動式氣旋分離」技術,能有效捕捉粉塵,避免其堆積於管壁,從根本上解決粉塵堵塞的難題。

展望營運,周谷樺指出,隨著半導體與記憶體客戶新廠擴建計畫持續進行,銳澤仍戮力擴大氣體二次配工程、氣體供應主系統與 Turnkey 統包接案,並深化既有知名半導體晶圓廠、記憶體廠客戶業務合作,拓展面板、化工等領域接單,更積極開展日本、新加坡與美國市場等海外布局。

(首圖來源:科技新報)

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