輝達 CPO 夥伴 Coherent 碳化矽磊晶技術有進展 飆 8%

作者 | 發布日期 2026 年 04 月 13 日 9:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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輝達 CPO 夥伴 Coherent 碳化矽磊晶技術有進展  飆 8%

輝達(Nvidia Corp.)矽光子共同封裝光學(CPO)供應夥伴Coherent Corp. 的碳化矽(SiC)磊晶(epitaxy)技術取得顯著進展,股價應聲飆高。

Coherent 10日新聞稿透露,最新碳化矽磊晶技術能支援高達10千伏特(kV)功率元件,鎖定次世代AI資料中心與工業電力應用。

這些技術進展讓客戶能為數百萬瓦(multi-megawatt)級的資料中心及工業基礎設施,開發出體積更小、能源效率更高的電力轉換系統。

Coherent碳化矽部門資深副總裁Gary Ruland表示,針對多千伏特碳化矽元件開發的新型厚磊晶技術,能讓客戶在能源基礎設施、大容量不斷電系統(UPS),以及AI資料中心內的先進配電系統這些關鍵應用中,實現更高的效率與功率密度。

Coherent 12日聞訊勁揚8.21%,收307.50美元,創歷史收盤新高。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:Coherent

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