艾司摩爾 2017 年第 16 次登半導體微影設備龍頭,預計積極增產

作者 | 發布日期 2018 年 02 月 13 日 17:30 | 分類 國際貿易 , 奈米 , 會員專區 Telegram share ! follow us in feedly


根據美國研究調查機構 De Information Network 的研究資料顯示,2017 年全球半導體光刻設備,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 仍以 85% 的市占率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康 (Nikon) 的 10.3%,以及佳能 (Canon) 的 4.3%。這樣的市占率表現讓 ASML 連續 16 年穩居市場第一的寶座。

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