艾司摩爾 2017 年第 16 次登半導體微影設備龍頭,預計積極增產

作者 | 發布日期 2018 年 02 月 13 日 17:30 | 分類 國際貿易 , 奈米 , 材料、設備 follow us in feedly

根據美國研究調查機構 De Information Network 的研究資料顯示,2017 年全球半導體光刻設備,荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 仍以 85% 的市占率穩居龍頭,其次是日本廠商尼康 (Nikon) 的 10.3%,以及佳能 (Canon) 的 4.3%。這樣的市占率表現讓 ASML 連續 16 年穩居市場第一的寶座。




報告中顯示,ASML 之所以能夠幾乎以壟斷的地位占據半導體微影設備的市場,原因是 ASML 是目前唯一一家能提供極紫外光 (EUV) 微影設備的公司。這在目前半導體的晶圓代工領域,成為極其重要的關鍵設備。現階段全球的晶圓代工大廠三星、台積電、格羅方德等公司都將在 7 奈米的製程中導入這項每部加值超過 1 億歐元的設備。因為藉由極紫外光微影設備的作業,可以降低原本採用深紫外光 (DUV) 的多模式製程步驟,並且減少沉積,因此成為各晶圓代工大廠進入先進製程不可或缺的關鍵。

不過,在 2017 年,EUV 光刻機的年產量只有 12 台,幾乎每個月只生產出一台,呈現供不應求。目前 ASML 的客戶有 8 個之多,其中就包括台積電、三星和英特爾。這些半導體大廠們為了快速快速下一代新的製程,他們甚至還出錢幫助 ASML 加快研發 EUV 研發進度。

只是,多年來 EUV 的商業化之路依舊走得艱辛。因為,在光照亮度的提升始終未能達到客戶的預期,而且採用 EUV 技術的成本也高得嚇人的情況下,EUV 技術的進展一直很緩慢。過去,摩爾定律始終控制著半導體製程的發展,如今這些半導體大廠期望透過押注 EUV 的發展,進一步改變摩爾定律極限的問題。

據了解,ASML 目前在 EUV 光刻機累積的訂單已經達到 27 台,是目前年產量的兩倍多。也就是說,ASML 在 2018 年之前的產能已經全部都被訂光。所以,ASML 目前也在採取措施,確保提高生產力能跟上需求。

據了解,ASML 計劃在 2018 年將光刻機的年產量逐步擴大到 24 台,而到 2019 年將達到 40 台的年產量。而這樣的擴產計畫,進一步拉抬了 ASML 的股價。根據統計,ASML 的股價在過去一年內漲了 30%,目前公司市值約為 530 億歐元。

(首圖來源:ASML官網)