台灣 10 奈米以下市占近五成！濾能以每股 98.6 元掛牌上櫃

半導體先進製程懸浮氣態污染物（AMC）防治專業廠濾能今日以每股 98.6 元正式掛牌上櫃，目前在台灣 10 奈米以下先進製程的市占率近五成，但受到大盤力守「萬五」關卡影響，濾能盤中最高漲幅達 5.48％，股價一度到 104 元。

濾能 2021 年度營收達 8.29 億元，年增 28.01%，毛利率 28.72％，營益率 14.61％，稅後淨利 0.96 億元，年增 16.22％，每股盈餘（EPS）5.46元，創歷史新高；2022 年第一季營收達 2.48 億元，每股稅後盈餘 0.78 元。

由於先進製程線寬線徑越來越窄，AMC 對製程良率的影響持續增加，濾能主力產品模組化化學濾網主要應用區域為無塵室風扇過濾單元（FFU），以 12 吋先進製程廠區為大宗，並在 10 奈米以下先進製程市占率已近五成，隨著先進製程廠房擴增、製程升級，未來營運動能相當樂觀。

濾能表示，AMC 防治是半導體先進製程不可忽視的議題，尤其是製程微縮至 5 奈米以下，只要 5~17 個污染氣體分子沉積就可占滿 5 奈米線寬，並造成良率降低，隨著半導體電晶體結構在 3 奈米或 2 奈米轉換至環繞閘極（GAA），微污染對良率影響更加敏感，使得 AMC 防治更為重要。

受到碳中和趨勢，主要客戶已向供應商提出將會把供應鏈碳足跡與減碳績效納入其重要採購指標，要求其供應商在 2030 年前必須節能 20%，其中框體/濾材重複使用可減少 60% 以上廢棄物，濾材可再製成 RDF 燃料棒，用於生質能發電，燃燒後的底渣則製成環保高壓磚或是水泥添加物。

濾能擁有 TAF 17025 專業實驗室及多領域研發團隊，能在第一時間協助客戶發掘環境濃度問題，並提出客製化防治方案，去年為因應主要客戶加速建廠及廠區維護需求，動工興建南科廠房，導入自動化設備，提升自製比重，並做為再生濾網發展基地，加速研發應用次世代先進製程的新產品。

法人表示，晶圓代工龍頭近年來積極轉換採用綠色製程，並在去年向供應商提出將會把供應鏈碳足跡與減碳績效納入其重要採購指標，至於旺宏、美光、南亞科等記憶體廠，新建生產線則優先採用綠色製程，未來隨著先進製程持續推動，可望同步帶動營收及獲利表現。

（首圖來源：濾能）