英特爾組裝完成首套 High-NA EUV,2027 年生產 Intel 14A 製程 作者 Atkinson | 發布日期 2024 年 04 月 19 日 9:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit Loading... Now Translating... 英特爾晶圓代工達成先進半導體製造邁出重大里程碑,其位於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾研發基地,英特爾研發人員已完成業界首台商用高數值孔徑極紫外光微影設備(High NA EUV)組裝。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , High-NA EUV , Intel 14A , 英特爾