晶圓大廠 EUV 光罩 AOI 微粒檢測!華洋精機預計 5 月底掛牌上櫃

作者 | 發布日期 2026 年 04 月 28 日 15:50 | 分類 半導體 , 封裝測試 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
Loading...
晶圓大廠 EUV 光罩 AOI 微粒檢測!華洋精機預計 5 月底掛牌上櫃

華洋精機明日將舉辦上櫃前業績發表會,預計 5 月底掛牌交易,董事長邱見泰表示,受惠產品線多樣化及半導體大廠海外擴廠需求,今年營收有望挑戰雙位數成長,並從自動光學檢測(AOI)跨足設備清潔領域,更預告年底將推出高精度 AOI 量測設備,鞏固其在半導體前段製程的技術壁壘。

邱見泰表示,華洋精機創立自 2012 年,憑藉獨家專利 SFO(表面光學去背景)光學檢測技術,專注於視覺影像檢測設備、自動化系統及客製化影像模組的設計、開發、製造與銷售,協助客戶解決製程核心痛點,並提供高效解決方案,具備自主開發影像處理函式庫、光學取向模組及 AI 的能力。

邱見泰指出,受惠 AI 與 HPC 應用帶動先進製程微縮、極紫外光(EUV)光罩與 CoWoS 等先進封裝擴產需求浮現,高精度、全檢與即時檢測需求快速升溫,半導體檢測設備躍升為影響良率與產能效率的關鍵環節,也讓華洋精機在高階 AOI(自動光學檢測)市場的定位更受矚目。

邱見泰分享,華洋精機為 AOI 設備產業鏈中上游服務提供者,除自主光學模組開發與製造外,具備整機系統整合與改造能力,應用重心聚焦於半導體光罩、晶圓及先進封裝等高階製程檢測場景,目前是台灣本土唯一可同時檢測 EUV 與 DUV 光罩微粒的設備供應商。

華洋精機總經理蕭賢德表示,因為傳統 Non-SFO 技術需先拍攝原始影像,再以軟體過濾背景圖案,不僅增加計算時間,也可能造成缺陷失真、影響判讀,而 SFO 能透過專利光源設計,取像階段就取得「無底圖影像」,可直接辨識缺陷、簡化演算法負擔,並更精準計算瑕疵尺寸。

蕭賢德指出,這樣的技術能延伸至 CoWoS 先進封裝、晶圓與石英玻璃表面等多元缺陷檢測場景,驗證能力已通過先進製程客戶的嚴格門檻,後續隨海外擴廠與先進封裝產能擴張,打破過去由國際大廠長期壟斷的市場格局,並成功切入全球晶圓代工大廠的先進製程供應鏈。

蕭賢德分享,今年的產品策略聚焦於「多樣化」與「即時化」,首先是跨足非接觸式清潔設備,結合 AOI 檢測累積的大數據,精準定位製程中的機台問題,進而推出非接觸式的乾式清潔設備,直接化「數據」為「行動」,協助供應商解決製程污染。

蕭賢德說明,再來是舊機台升級「片片全檢」,針對早期僅能抽樣檢查的塗佈(Coater)等設備,華洋開發出即時檢測模組,傳統產線即可實現 100% 全檢,大幅提升良率控管標準,更在極紫外光(EUV)光罩與薄膜(Pellicle)檢測走出獨特的差異化路線。

調研機構 Mordor Intelligence 預估,2025 年全球半導體檢測設備市場規模達 130.3 億美元,2025 年至 2030 年將以 5.4% 年複合成長率(CAGR)擴張,至 2030 年市場規模上看 169.5 億美元,而當先進製程節點推進至 7 奈米以下,全檢化趨勢將進一步推升高精度 AOI 滲透率。

營運表現方面,華洋精機營收從 2023 年的 1.78 億元,成長至 2024 年的 2.51 億元,年增 41%,2025年 營收更達 3.12 億元,年增 24%,成長軌跡持續延伸近年受惠高階機種出貨擴大,成長動能明顯轉強。

法人指出,有別於多數 AOI 業者偏重 PCB 或標準化外觀檢測,華洋精機精準聚焦高階、低量且具強客製化需求的製程檢測市場,有效迴避價格競爭的紅海格局,因半導體前段製程對精度的嚴苛要求形成高進入門檻,未來有望受惠先進製程與封裝產能持續開出。

(首圖來源:科技新報)

延伸閱讀:

想請我們喝幾杯咖啡?

icon-tag

每杯咖啡 65 元

icon-coffee x 1
icon-coffee x 3
icon-coffee x 5
icon-coffee x

您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力

總金額共新臺幣 0
《關於請喝咖啡的 Q & A》