台積電史上最高資本支出,ASML 成半導體軍備賽最大贏家

作者 | 發布日期 2019 年 11 月 03 日 0:00 | 分類 晶圓 , 財經 Telegram share ! follow us in feedly


台積電在 10 月 17 日召開的第 3 季法說會上,宣布上調資本支出 40 億元,由原先的 100~110 億美元,大幅上調至 140~150 億美元,創下台積電單年資本支出的新高紀錄。

而早在 10 月 7 日,台積電搶在法說會前所發布的一則新聞稿,已悄悄凸顯出當前半導體大廠 EUV(極紫外光刻)軍備競賽的熱度。新聞稿中宣布,導入 EUV 微影技術的 7 奈米強效版(N7+)製程,已於第 2 季開始量產。台積電宣稱,7 奈米製程量產已超過 1 年的情況下,N7+ 良率與 7 奈米已相當接近。台積電此舉被外界解讀為,是要向搶先量產 EUV 但良率似乎不如預期的三星「示威」。

在法說會上宣布新增的 40 億美元資本支出,就包含採購多台單價逾 1 億美元的 EUV 微影設備。台積電企業訊息處資深處長孫又文向《財訊》證實,「除了 7 奈米之外,所有先進節點如 6 奈米、5 奈米等,都將採用 EUV 作為製程的一部分。但浸潤式微影仍然是未來所有先進製程節點的重要工具。」儘管台積電在 7 奈米以下的更先進奈米製程中,EUV 與浸潤式微影技術將並重,但未來勢必對於 EUV 機台採購需求看漲。

波長新里程  突破摩爾定律

巧合的是,就在 10 月 15 日,全球半導體光刻設備龍頭艾司摩爾(ASML)在法說會前一天,其於歐洲與美國那斯達克掛牌的股票,股價分別以 243.2 歐元與 267.54 美元,雙雙創下歷史新高紀錄,今年以來的漲幅也分別高達逾 76% 和 71%。

為何這個來自荷蘭費爾德霍芬市的半導體設備大廠股價會漲翻天?答案就是:由艾司摩爾獨家提供的 EUV 微影技術,這正是台積電為持續維持技術領先,大力加碼投資的新設備。

過去 20 年,全球半導體廠商都仰賴當時最先進的浸潤式微影機台,採用 193 奈米波長的光刻出電路圖案;然而,隨著晶片微縮愈來愈精細,浸潤式微影技術已無法應付,導致摩爾定律恐難以再延續。因此台積電、英特爾、三星等半導體大廠都引頸期盼著,艾司摩爾展開研發的波長僅有 13.5 奈米的 EUV 微影機台,可以突破浸潤式微影機台在半導體製程的技術瓶頸。

然而,EUV 微影機台的研發難度更高,研發費用也持續墊高,讓艾司摩爾愈來愈吃不消,原本應該在 2005 年就該量產,進度卻一再延宕。為加快 EUV 研發進度,2012 年,英特爾、台積電、三星展開一項創舉—向他們的設備供應商艾司摩爾投入了大量資金。

當時,3 大巨頭總共投資高達 38.5 億歐元,取得約 23% 股份,其中英特爾擁有 15%、三星取得 3%、台積電則有約 5% 的股份。英特爾還額外投資艾司摩爾的研發計畫 33 億美元;三星也為研發計畫挹注 2.76 億歐元。

經過漫長研發,如今艾司摩爾是全球唯一可量產 EUV 微影設備的大廠,無論三星、台積電、英特爾、中芯國際等半導體大廠,全都要靠艾司摩爾生產的 EUV 微影設備,才能在先進奈米製程中導入 EUV 微影技術。

隨著三星、台積電的 EUV 製程相繼成功投產,英特爾也在加速 EUV 製程進展,未來還有更多中國半導體大廠也將在 EUV 製程摩拳擦掌,一場世界級的 EUV 軍備競賽已如火如荼開打,角色如同「軍火商」的艾司摩爾自然是最大贏家。

果然,就在 10 月 16 日,艾司摩爾的第 3 季法說會上,總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)揭露令外界眼睛為之一亮的消息,「我們在第 3 季完成 7 台 EUV 出貨,其中 3 台是 NXE:3400C(產能更大的最新型號)。同時接到來自邏輯與記憶體客戶的 23 台 EUV 新訂單,不僅讓創下我們單季最高訂單金額紀錄,達 51.11 億歐元(折合新台幣達 1,763.8 億元),也證實邏輯和記憶體晶片客戶均積極將 EUV 微影技術導入晶片量產。總結來說,我們對於 2019 年的整體營收目標維持不變,今年對於艾司摩爾來說仍是成長的 1 年。」

訂單紛至  第 4 季毛利驚人

展望第 4 季,溫彼得仍深具信心地表示,預計第 4 季銷售淨額將達約 39 億歐元(折合新台幣達約 1,346 億元),這將創下歷史新高。此外,第 4 季毛利率將高達 48%~49% 之間,大大高於第 3 季度的 43.7%。利潤預期將會提高的主因來自於 EUV 微影最新型號機台 NXE:3400C,具備更高的 ASP(平均銷售價格)。

孫又文指出,「鑑於明年 5G 部署的前景更加樂觀,在過去的數個月中,對 7 奈米與 5 奈米的需求已顯著增加,」因此,台積電決定將 2019 年全年的資本支出增加 40 億美元,以滿足不斷增長的需求。「在新增的 40 億美元資本支出中,約 15 億美元用於 7 奈米產能,25 億美元用於 5 奈米產能。」

而且,孫又文更進一步透露,台積電目前計畫明年的資本支出與修訂後的 2019 年資本支出有些相似。換言之,明年台積電的資本支出也與今年不分軒輊,當中也包含採購更多 EUV 微影設備的費用。

艾司摩爾的前景一片光明,讓外資也按讚。

10 月 16 日,摩根大通出具一份報告,給予艾司摩爾的評價是優於大盤,並訂定年底前目標價為 240 歐元,此一目標價格是由於預估 2025 年每股盈餘將達 18 歐元,本益比 13 倍,「我們提高了倍數,以反映出 EUV 在市場滲透率上有更好的能見度。」若觀察近期艾司摩爾的股價表現,可發現此一論點也頗獲市場認同。

若以平均每兩年推出 1 個先進奈米製程估算,以目前可預知的 7 奈米、6 奈米、5 奈米、3 奈米、2 奈米製程,憑藉著 EUV 微影機台,未來艾司摩爾至少有 10 年的好光景。特別是,隨著半導體大廠軍備競賽打得更加激烈,艾司摩爾身為全球獨家 EUV 設備供應商,也將更展現出贏者全拿的氣勢。

(本文由 財訊 授權轉載;首圖來源:ASML )