為推動尖端半導體微影技術發展,微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 與處理器龍頭英特爾於台北時間 19 日晚間宣布長遠合作的最新發展,為雙方長遠高數值孔徑合作案的框架內容,英特爾已向 ASML 下訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 系統訂單。這款具備 High-NA 極紫外光(EUV)大量生產系統,每小時有 200 片以上晶圓產能。
英特爾搶先台積電下訂業界首部新世代 EUV,強化與 ASML 技術合作 |
作者 Atkinson | 發布日期 2022 年 01 月 19 日 22:30 | 分類 IC 設計 , 晶片 , 會員專區 | edit |
為推動尖端半導體微影技術發展,微影技術與曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 與處理器龍頭英特爾於台北時間 19 日晚間宣布長遠合作的最新發展,為雙方長遠高數值孔徑合作案的框架內容,英特爾已向 ASML 下訂業界首部 TWINSCAN EXE:5200 系統訂單。這款具備 High-NA 極紫外光(EUV)大量生產系統,每小時有 200 片以上晶圓產能。
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