半導體製造設備大廠艾司摩爾（ASML）副總裁暨台灣總經理汪佳慧（Grace Wang）今日針對AI時代的半導體技術革新與在台布局發表最新戰略方向進行了說明。她表示，在人工智慧算力需求呈爆炸性成長的當下，資料中心的建置動輒帶來高達數個 GW（Gigawatt）的驚人電力消耗，單一運算需求甚至等同於數座核能發電廠或整個北海風電的總發電量。面對此一嚴峻的能源挑戰，ASML 將透過極紫外光（EUV）與新一代高數值孔徑（High-NA）EUV 等微影技術的突破，在推動半導體效能極致發展的同時，大幅降低單位晶圓的生產能耗，從技術源頭解決產業的永續難題。
微影技術發威，以提升產能與簡化製程雙軌降低能耗
汪佳慧指出，隨著晶片製程節點不斷推進，電晶體密度越來越高，若維持傳統的技術生產，不僅技術挑戰加劇，每個製程節點的碳排放量更可能面臨翻倍成長的危機。若整體晶片產量依循AI需求持續攀升，至2020年代末期，半導體業的整體碳排放量甚至可能暴增四倍。為此，ASML的研發主軸高度聚焦於「產能提升」與「製程優化」雙軌策略。
在主力旗艦機型方面，ASML最新的 TWINSCAN NXE:3800E EUV 曝光機，已成功將每小時的晶圓產出量（Wafer Per Hour）從220片提升至230片，未來更目標在2031年達到每小時產出400片水準，並預計於2030年前將整體EUV設備的晶片產能提升達50%。這意味著在相同的機台能耗基礎下，生產效率的大幅提升將直接稀釋掉單一晶圓所承載的耗電量。
此外，新世代 High-NA EUV 設備的導入更為先進製程帶來革命性的節能改變。過去在深紫外光（DUV）或早期曝光技術中，晶圓廠需仰賴複雜的多次曝光（Multi-patterning）來達到所需的電路精度，這不僅增加生產步驟，更大幅推升整體晶圓廠的電力消耗。透過 High-NA EUV 的技術升級，半導體製造商能夠將複雜的關鍵層製程，直接簡化為單次曝光（Single exposure），此舉能取代多達四次的重複曝光程序，不但有效提高產品良率、縮短生產週期，更顯著降低了單位晶圓的製造成本與龐大能耗。
另外，數據顯示，自2018年首台EUV投入量產以來，ASML設備在每次晶圓曝光的能耗上已成功降低了57%，未來五到十年內更預期能再進一步減少30%以上的耗能。同時，ASML也與客戶端緊密合作，積極導入氫氣回收再利用、冷卻水系統優化，以及讓機台在閒置時進入「動態節能睡眠模式」（Sleep mode），全面控管機台從「永遠待機」（always on）轉為「依需求啟動」的用電效率。
深耕台灣生態系貢獻全球四分之一營收，啟動千人擴大招募
在尖端技術持續突破的同時，台灣在全球半導體先進製程的領導地位，也讓ASML更加重視在地佈局。汪佳慧表示，台灣不僅是帶領全球半導體先進技術發展的關鍵支柱，更是ASML技術共同研發的重鎮。目前ASML在台灣的員工人數已達4,700人，約占全公司全球員工總數的10%，而台灣市場更為ASML貢獻了高達83億歐元、約占全球25%的總營收。
為就近支援客戶，ASML在台灣從北到南共設有8個辦公室與5個客戶服務中心，並在林口與台南設有兩座製造工廠。著眼於AI帶動的未來產能擴充需求，ASML正於新北市興建全新廠區，並宣布今年將在台灣擴大招募約1,000名新進人才，其中新北廠就釋出高達300個職缺，招募領域將高度聚焦於客戶支援、智慧製造與供應鏈管理等關鍵部門，持續強化對台灣半導體生態系的支持與服務承諾。
落實循環經濟與多元共融，2025全球達成100%綠電目標
在追求技術極致的同時，ASML亦將永續與社會責任視為企業DNA。汪佳慧宣布，在涵蓋自身營運的範疇一與範疇二碳排上，ASML不僅於2024年達成了96%的再生能源使用率，更已於2025年成功在全球營運據點（包含台灣）實現了100%使用綠電的里程碑，並宣告其全球製造設施與建築物達成溫室氣體中和。
同時，ASML也積極推動供應鏈與運輸端的減碳（範疇三），例如以部分海運取代高碳排的空運，於2025年順利將26台設備透過海運交付至客戶手中。在循環經濟方面，自2019年林口廠區啟動計畫以來，台灣團隊已成功完成超過130台設備的翻新作業，並修復了近一萬件零組件，有效延長高階精密設備的生命週期。
在人才與企業治理層面，ASML強烈主張以「包容與多元」（Inclusion & Diversity, I&D）取代傳統的D&I排序，強調必須先建立包容的文化，多元觀點才能真正發揮價值。內部更推行了獨特的「反向導師」（Reverse mentoring）計畫，讓年輕世代或少數族群員工擔任高階主管的導師，打造更具同理心的職場環境。在公司治理上，ASML展現出強烈的永續決心，將高階主管高達20%的薪酬與ESG目標達成率直接掛鉤，確保企業在重大決策上能徹底貫徹永續發展的承諾。
汪佳慧總結指出，面對AI時代下半導體產業「算力需求無窮增長」與「地球資源有限性」的雙重挑戰，ASML將持續秉持技術領航者的角色，透過EUV技術的不斷演進與創新，攜手台灣與全球供應鏈夥伴，共同打造兼具極致運算效能與綠色永續的半導體產業未來。
(首圖來源：科技新報攝)
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