根據 《路透社》 的報導，日本光學大廠尼康（Nikon） 於 24 日表示，已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作夥伴卡爾蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟，並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上，並運用在半導體製造業中。
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Nikon 狀告 ASML 與夥伴 Carl Zeiss 侵權 半導體設備市場掀波瀾 |
作者
Atkinson |
發布日期
2017 年 04 月 25 日 8:30 |
分類
光電科技
, 晶片
, 會員專區
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根據 《路透社》 的報導，日本光學大廠尼康（Nikon） 於 24 日表示，已對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）和合作夥伴卡爾蔡司（Carl Zeiss AG）提起法律訴訟，並表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影（lithography）技術專利用於光刻機上，並運用在半導體製造業中。
