
隨著台積電宣布全世界第一個 3 奈米製程建廠計畫落腳台灣南科後,10 奈米以下個位數製程技術的競爭正式進入白熱化。台積電對手三星 29 日也宣布,開始導入 11 奈米 FinFET,預計 2018 年正式投產,也宣布將在新一代 7 奈米製程全面採用 EUV 極紫外線光刻設備。
本篇文章將帶你了解 :三星推出 11 奈米 FinFET 製程,並宣布 7 奈米製程將全面導入 EUV
三星推出 11 奈米 FinFET 製程,並宣布 7 奈米製程將全面導入 EUV |
作者
Atkinson |
發布日期
2017 年 09 月 30 日 10:45 |
分類
Samsung
, 國際貿易
, 晶片
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隨著台積電宣布全世界第一個 3 奈米製程建廠計畫落腳台灣南科後,10 奈米以下個位數製程技術的競爭正式進入白熱化。台積電對手三星 29 日也宣布,開始導入 11 奈米 FinFET,預計 2018 年正式投產,也宣布將在新一代 7 奈米製程全面採用 EUV 極紫外線光刻設備。
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