中國半導體正迎接先進光刻時代到來,中芯、長江存儲、華虹先後引進

作者 | 發布日期 2018 年 05 月 22 日 9:15 | 分類 國際貿易 , 晶片 , 會員專區 Telegram share ! follow us in feedly


近期,中國半導體廠開始積極迎接先進的光刻機時代到來。就在日前,中國最大晶圓代工廠中芯國際斥資 1.2 億美元,自荷商艾司摩爾(ASML)買來中國首台極紫外線光刻機的消息曝光之後,以生產 NAND Flash 為主的長江存儲,也在日前傳出,同樣向艾司摩爾採購價值 7,200 萬美元的 193 奈米沉浸式光刻機,用於 20~14 奈米的 3D NAND Flash 生產,也同樣運抵武漢。最新的是,華虹集團旗下的上海華力集成電路,也迎接了他們的首台 193 奈米雙沉浸式的光刻機,以用於先進製程的晶圓製造生產。

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