ASML 第 3 季營收 40 億歐元,增 4 台 EUV 約 5.95 億歐元訂單

作者 | 發布日期 2020 年 10 月 14 日 15:30 | 分類 國際貿易 , 材料、設備 , 財報 Telegram share ! follow us in feedly


全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 (ASML) 於 14 日發佈 2020 年第 3 季財報,銷售淨額 (net sales) 為 40 億歐元,淨收入 (net income) 達到 11 億歐元,毛利率 (gross margin) 為 47.5%,新增訂單金額 29 億歐元。

ASML 總裁暨執行長 Peter Wennink 表示,ASML 在 2020 年第 3 季的營收達到 40 億歐元,優於財測,毛利率則是維持在 47.5%。整體來說,2020 年第 3 季完成 10 台 EUV 系統出貨,並認列 14 台 EUV 系統的營收。而營運在本季並未受到武漢肺炎疫情的重大衝擊,使得第 3 季的新增訂單金額達到 29 億歐元,其中 5.95 億歐元來自 4 台 EUV 系統訂單。

Peter Wennink 進一步指出,預期 2020 年第 4 季的營收將落在 36 億歐元到 38 億歐元之間,毛利率約 50%,研發成本約 5.5 億歐元,管銷費用約 1.4 億歐元。因此,2020 年的營收展望已經確定,預估年度有效稅率約 14%。至於,2021 年,ASML 預期將有逾兩位數的營收成長。儘管宏觀環境存在不確定性,包括武漢肺炎疫情的經濟影響和地緣政治發展,然而,長期來看,終端市場驅動因素的發展(例如 5G、AI 和高效能運算)將推動對於高階邏輯運算和記憶體晶片的需求,這些高階製程都需要使用到先進的微影技術。

至於,針對業務的發展,ASML 表示,DUV (深紫外光) 微影系統業務在第 3 季已對首台 TWINSCAN NXT:2050i 微影系統進行認證,並於第 4 季初完成出貨。TWINSCAN NXT:2050i 在光罩載台 (reticle stage)、晶圓載台 (wafer stage)、投影鏡頭 (projection lens) 及曝光雷射 (exposure laser) 方面都有新的技術發展,相較於前一代,TWINSCAN NXT:2050i 可以實現更好的疊對控制和更高的生產力。而 TWINSCAN NXT:2050i 將立即進入量產。

而在 EUV (極紫外光) 微影系統業務方面,絕大部分在客戶端的 NXE:3400B EUV 系統都已完成生產力模組 (productivity packages) 的升級。ASML 也公布了新一代 EUV 系統 TWINSCAN NXE:3600D 的最終規格,該系統的生產力提高 18%,能在 30 mJ/cm² 的曝光能量下達到每小時曝光 160 片晶圓的生產力,同時將匹配機器疊對精度(matched machine overlay)提高到1.1 nm,該系統預計於 2021 年中開始出貨。

(首圖來源:ASML)