進入後摩爾時代，極紫外光（EUV）微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術，目前包括台積電、三星（Samsung）、英特爾（Intel）等大廠也積極導入 EUV。據供應鏈消息，2021 年 ASML（艾司摩爾）EUV 設備出貨量從 40 台起跳，台積電包下至少 15 台、上看 20 台，穩居最大客戶；法人看好 ASML 供應鏈的帆宣、家登、公準等有望持續受惠。
根據摩爾定律，積體電路（IC）可容納的電晶體數目，約每 18~24 個月就會增加一倍，性能也將提升一倍，成本則下降一半。從物理定律來看，電晶體的微縮不可能永無止盡，市場質疑摩爾定律將無法延續；EUV 技術可減少晶片生產步驟及光罩層數，達到降低成本的好處，因此視為發展先進製程的重要技術。
台積電從 7+ 製程開始導入 EUV 技術，跨入新製程世代，每片晶圓採用的 EUV 光罩層數也越來越多。業界分析，台積電 7+ 約需 2~4 層 EUV 光罩層、5 奈米約 12~14 層，3 奈米更需要到 24 層，可見 EUV 的重要性；3 奈米也拍板 non-Pellicle（無光罩保護膜），不僅更環保，也能讓 EUV 生產力（Productivity）發揮到極致。
台積 5 奈米已在南科順利量產，3 奈米生產基地也在南科，台南可說是 EUV 重鎮，據悉南科 EUV 機台就多達 20 幾台，由於 3 奈米新廠將於今夏開始進機，未來將一舉突破 30 台。再者英特爾、三星也積極布建 EUV 產能，加上 SK 海力士等記憶體大廠相繼導入 EUV，均將支撐 EUV 的未來需求。
現在市場已知的 EUV 供應鏈，包括光罩盒供應商家登、EUV 設備模組代工廠帆宣、零組件供應商公準等。帆宣目前在手訂單約 243 億元，訂單年見度直透年底，法人看好今年營收可望雙位數成長，整體營運表現將再締新猷。
看好半導體需求前景，家登規劃在土城新建廠區，最快 2022 年底完工，整體產能將較目前提升超過一倍，同時也積極開發晶圓載具新品，並布局航太新事業，有望為公司長期發展增添動能。法人預估，今年家登 EUV 光罩盒出貨量有望較去年倍增，全年營收拚優於去年成績，續創新高。
（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：科技新報）
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