美光持續加碼投資台灣增聘員工,台中廠導入 EUV 將於 2024 年量產

作者 | 發布日期 2022 年 06 月 10 日 18:40 | 分類 公司治理 , 晶圓 , 晶片 Telegram share ! follow us in feedly


2019 年動土,2020 年下半年完成無塵室安裝,日前還宣布將在 2022 年底導入極紫外光曝光設備(EUV)美光台灣台中 A3 廠區,10 日正式開放給媒體參訪。美光台灣新任董事長盧東暉指出,美光在台灣深耕 20 多年,目前是台灣投資最大的外商。而且,台灣美光當前擁有 1 萬多名員工,占了全球 4 萬多名員工的四分之一強,未來還將繼續加碼投資的情況下,就未來 2 至 3 年還將再增加 2,000 名的員工。

先前任職於處理器大廠英特爾,在半導體業界有 20 多年資歷,曾經歷過邏輯晶片、NAND Flash 等產業的台灣女婿盧東暉 10 日首次與媒體首次見面時指出,自 2022 年開始擔任美光台灣董事長職務以來,非常感謝美光給他這個機會跟同事共同學習。而他希望延續與發展過去美光在台灣的投資與合作之外,他也提出未來努力的三大目標,就是包括加速先進製程量產、強化供應鏈、以及培育人才三大部分。

盧東暉強調,台灣與日本同為美光為重要的 DRAM 生產據點。其中,在台灣的部分,當前美光領先業界的 1 ɑ(alphad)DRAM 製程技術就已經開始在台灣進行生產,而下一代 1 β(beta)DRAM 製程技術也將持續維持業界領先的優勢,並預計日本量產後,將會把 1 β(beta)DRAM 製程技術轉移到台灣生產,屆時台灣與日本都會成為該製程技術的生產基地。

另外,美光台灣也預計在 2022 年底在位於台中的 A3 廠導入極紫外光曝光設備(EUV),用於1 γ(gamma)DRAM 製程技術的生產上,並預計將會在 2024 年開始進行量產。這意味這美光在台灣將將 1 γ (gamma)DRAM 製程技術設置研發走廊,成為全球該項技術的量產中心,未來持續發展 DDR5、LPDDR5、HBM 等相關產品上,這也將使得美光的技術持續在全球產業持續領先。

盧東暉進一步強調,當前 1 ɑ(alphad)及 1 β(beta)DRAM 製程技術在美光評估之後,認為以現有技術樹就可以達到這樣的水準,因此才會在 1 γ (gamma)DRAM 製程技術的節點上導入 EUV 設備。而且,EUV 設備非常昂貴且複雜,考量機器可靠性、光罩、人才等相關生態系統趨於成熟,相信在 1 γ (gamma)DRAM 製程導入 EUV 是相當好的時機,會是技術、性能與成本最佳組合。至於,在導入 EUV 之後的耗電問題,盧東暉也表示,會進一步與政府相關單位進行討論,並結合供應鏈廠商一起做到使用綠能,節能減碳的目標。

事實上,美光台灣台中 A3 廠本身就符合節能減碳的綠建築規範,除設計每年能節電 9,000 萬度,相當於 25,685 個台灣家庭的全年用電之外,A3 廠總用水量的 75% 皆能重複利用和回收。每年可以節省多達 1,630 萬立方公尺的水,足以填滿 6,500 個奧運級游泳池。另外,A3 廠屋頂設置太陽能板,可利用太陽光獲取額外電力,基礎設施也經過特別設計,可收集雨水用於不同用途。

而在被問題針對短期產業景氣的問題時,盧東暉表示,自從他 2000 年進入半導體產業以來,產業從來沒有持續都是好景氣的情況,以他的經驗來說,這應該是他所經歷的第六次市場波動狀況。因此、雖然短期內可能會有震盪,不在全球加速數位化的情況下,拉抬記憶體市場的長期發展。其中包括車用、工業與資料中心都是預期成長快速的市場。

(首圖來源:科技新報攝)