產創條例提高研發投資抵減比率！資誠：最低稅負制恐讓美意落空

經濟部近期研擬修訂產創條例，規劃提高研發投資抵減比率、取消先進製程設備投資金額上限及先進製程設備投資抵減比率，資誠科技產業研究中心主任鄭雯隆認為，未來修法完成後，雖提高企業研發投資抵減比率，但企業仍須注意最低稅負率提高後，企業實際繳納的稅額可能不增反減，讓政府打造護國群山的美意打折。

為確保半導體產品供應無虞，以維繫下游終端製造業順暢生產，成為全球主要國家產業政策的推動重點，尤其是美國、歐盟、日本、南韓等國，透過擴大政府補助設立新半導體廠、提供投資租稅抵免、研發投資抵減等措施，激勵廠商投入半導體先進製程研發、擴大半導體產能，吸引外資投資。

做為全球最大半導體生產基地的台灣，一直以來產業發展政策的制定也從未忽略半導體產業，近期經濟部更研擬修訂產創條例，規劃提高研發投資抵減比率、取消先進製程設備投資金額上限及先進製程設備投資抵減比率。

鄭雯隆認為，未來修法完成後雖提高企業研發投資抵減比率，預計將有助於半導體前瞻研發能量與製程技術紮根於台灣本土，維持台灣半導體大廠及供應鏈競爭優勢，但企業仍需注意最低稅負率提高後，企業實際繳納的稅額可能不增反減，讓政府打造護國群山的美意打折。

根據 TrendForce 的報告顯示，2021 年台灣廠商在全球晶圓代工產業營收市占率高達 64%，預估 2022 年將提高到 66%，16nm 以下的先進製程市占率也高達 61%，尤其是在先進製程方面，其生產的晶片主要應用個人電腦、伺服器、智慧型手機、自動駕駛汽車等產品的 CPU/GPU。

產創條例修法重點說明

經濟部針對產創條例修法的重點有三，首先是根據目前產創條例第 10 條的規定，企業投資在研究發展支出最高可在 15% 限度內抵減年度應繳納的營利事業所得稅；或是在支出金額 10% 的限度內抵減當年度起三年內應納的營利事業所得稅，未來將朝提高單一年度 15% 或三年 10% 上限的方向進行修法，但實際投資抵減比率，還需要財政部進一步評估。

根據現行所得基本稅額條例第8條規定，企業基本稅額最低為 12%，最高不得超過 15%，徵收稅率則授權行政院視經濟環境定之，而為了因應 OECD 推動的全球最低稅負制即將在 2023 年正式上路，台灣雖然並非 OECD 會員，但財政部也在進行將企業最低稅率由現行 12% 提高至 15% 的可行性評估，因此未來產創條例修法，也將最低稅負制的相關規定納入適用範圍的規範當中。

鄭雯隆指出，透過修訂產創條例提高投資抵減企業營利事業所得稅，讓廠商能有充沛的資金持續投資，只是產業政策其中一環，確保土地、水、電等基礎設施的穩定與供應無虞，半導體設計、製程、品質管理等專業人才充沛，確保台灣投資經營環境穩定等要素更是缺一不可。

產創投資抵減修法的重點在於鼓勵企業投入研發，並提升投資抵減營利事業所得稅的額度，但是企業最低稅負率也將因應 OECD 最低稅負制的立法趨勢，由 12% 提升至 15%，觀察現階段台灣科技廠商財報後發現，多已善用投資抵減工具使有效稅率低於 15%，可能會出現應繳納的營利事業所得稅出現不減反增的現象，能因修法受惠的廠商恐怕寥寥無幾。

鄭雯隆指出，未來最低稅負制推行後，跨國企業所面臨的國際租稅環境與以往相較更加複雜，企業必須審慎面對預先規劃，而產創條例提供企業創新活動的補助，除了投資抵減之外，經濟部對全新或改良的商品或服務、技術、生產流程、行銷、組織運作等創新活動也有相對應的研發補助計畫，企業應依自身情況評估合適計畫爭取政府研發補助。

（首圖來源：shutterstock）