曝光機受影響廣泛深遠!拜登成功爭取美日荷聯手對中進行出口管制

作者 | 發布日期 2023 年 01 月 28 日 14:27 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 國際貿易 line share follow us in feedly line share
曝光機受影響廣泛深遠!拜登成功爭取美日荷聯手對中進行出口管制


美國拜登政府 1 月 27 日與日本、荷蘭達成一項協議,三方將共同限制對中國出口部分先進的晶片製造設備,協議主要是遏制中國打造國產晶片的雄心,預估這項協議將對日本和荷蘭的廠商造成影響,包括艾司摩爾(ASML)、Nikon 和東京威力科創(Tokyo Electron Ltd)等大廠。

根據知情人士表示,美日荷針對部分先進晶片製造設備出口限制達成協議,但並未公開協議限制的內容,並須等日荷兩國完成法律工作,預估落實禁令需要數個月的時間,而白宮國家安全委員會發言人與荷蘭貿易部發言人都不予置評。

彭博報導將這項協議形容為「拜登的勝利」,因為美國商務部 2022 年 10 月發布禁令時,揭櫫目標為以限制中方發展超級計算機和半導體開發的技術,並避免中方透過晶片發展大規模毀滅性武器等軍事系統。

日荷兩國跟進制裁後,半導體設備同樣須配合「non-planar transistor architectures」設備出口標準限制,意即 16/14nm及 以下等「非平面式電晶體架構」製程設備禁止輸入中國,預期日企 TEL、SCREEN、Hitachi High-Tech、Kokusai、Nikon、Canon,荷企 ASML、ASM 等皆將受到影響。

如此一來,全球前八大半導體設備商都將遵循美出口管制,暫緩設備出口至中國,除了設備出口限制之外,日本、荷蘭工程人員恐怕也將預防性撤出晶圓廠房,等待美商務部審查完成後再返回產線工作。

TrendForce 認為,由於目前半導體曝光機台主要由荷商 ASML 及日商 Nikon、Canon 提供,尤其 EUV 機台由 ASML 獨供、DUV immersion 設備則由 ASML 及 Nikon 寡占,因此在荷蘭及日本宣布跟進美出口管制後,曝光機將成為這次管制影響程度最廣泛且深遠的項目。

(首圖來源:ASML

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