荷蘭公布半導體設備管制措施!限制 DUV 曝光機出口到中國 作者 姚 惠茹 | 發布日期 2023 年 06 月 30 日 17:48 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 晶片 | edit Loading... Now Translating... 荷蘭政府今日正式公布最新半導體設備管制措施,要求先進晶片製造設備業者,出口 DUV(深紫外光)曝光機都必須申請許可,雖然相關管制措施沒有提到中國或 ASML(艾司摩爾),但是相當於限制 ASML 的 DUV 曝光機出口到中國,並預計管制措施將在 9 月 1 日生效。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , DUV 曝光機 , 荷蘭