半導體微影設備廠 ASML 台灣暨東南亞區客戶行銷主管徐寬成 19 日表示,半導體製程技術持續不斷微縮,High NA EUV 設備將有助於客戶節省時間及成本,目前客戶已有英特爾、IBM 及三星,累積超過 35 萬片晶圓使用 High NA EUV 曝光。 繼續閱讀..
ASML:High NA EUV 省時和成本,35 萬片晶圓用曝光 |
| 作者 中央社|發布日期 2025 年 11 月 20 日 8:15 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 |



