據《路透社》報導，南韓記憶體大廠 SK 海力士於台北時間 24 日表示，已與全球曝光設備生產大廠 ASML 簽訂為期 5 年，價值 4.8 兆韓圜（約 43.4 億美元）採購合約。市場人士指出，SK 海力士與 ASML 簽訂合約的主要目的，是確保記憶體製造過程採購到足夠 EUV 極紫外線曝光設備。
報導指出，SK 海力士文件表示，與 ASML 簽訂的交易是為了達成量產下一代製程晶片所需技術。SK 海力士最終目標是打造記憶體製造工廠全自動化運營，也就是 L5 等級，使生產製造每分鐘都能自動化和智慧化。2021 年 2 月 1 日，SK 海力士位於南韓首爾南部利川市的 M16 新廠已經正式完工，SK 海力士將首次使用 EUV 曝光機生產記憶體。
SK 海力士 M16 工廠斥資 35 兆韓圜，是目前 SK 海力士旗下最大的工廠，也安裝完成首條 EUV 生產線，預計將自 2021 下半年開始正式量產第 4 代 10 奈米級（1α）DRAM 記憶體。除了 SK 海力士，三星導入新世代製程之後隨即導入 EUV 設備使用，為全球 3 大 DRAM 供應商中最早導入 EUV 曝光設備者。三星近日發表的 LPDDR5 16Gb DRAM 就是採用 EUV 技術生產，頻寬 6400MHz，較 LPDDR5 12Gb DRAM 速度快 16%。
據供應鏈消息指出，2021 年 ASML 的 EUV 設備出貨量從 40 台起跳，晶圓代工龍頭台積電包下至少 15 台、上看 20 台，穩居最大客戶位置。因 ASML 的 EUV 產能有限，無法買到足夠機台，日前傳出三星電子副會長李在鎔（Lee Jae-yong）去年 10 月出訪歐洲，拜會 ASML 執行長 Peter Wennink 等人，企圖爭取買到足夠 EUV 曝光機，甚至提前取得產品的消息，可見市場對 EUV 曝光機需求孔急。
（首圖來源：SK 海力士）
