美國聯合荷、日將嚴控成熟製程設備出口中國,衝擊中國半導體甚大

作者 | 發布日期 2022 年 12 月 13 日 9:40 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備 line share follow us in feedly line share
美國聯合荷、日將嚴控成熟製程設備出口中國,衝擊中國半導體甚大


外媒報導,日本和荷蘭原則上同意美國,共同加強限制出口中國先進晶片製造設備,市場人士表示,這次限制 16 奈米節點製程沉浸式深紫外光微影曝光設備 (DUV),雖用於 16 奈米節點製程,但業界廣泛用於 40 奈米成熟製程到 7 奈米以下先進製程,甚至部分用於 5 奈米製程。美國成功號召荷蘭與日本廠商加入限制行列,代表中國 40 奈米以下設備都將很難取得,對產業發展阻礙甚大。

彭博社報導,知情人士透露,日本和荷蘭原則上同意加入美國,共同加強限制出口中國先進晶片製造設備。兩國很可能幾週內宣布,至少採取如美國 10 月部分限制措施。內容大致討論完成,剩最後執行細節和磋商,公布後半導體設備供應商應用材料、科林研發、科磊、日商東京威力科創和荷蘭商 ASML 等企業都會受影響。

外媒先前報導,美國力促下,荷蘭政府 2018 年後就不允許 ASML 極紫外光微影曝光設備 (EUV) 出口中國,因美國認為 EUV 生產的先進晶片會進入中國解放軍,影響美國國家安全。

ASML 年度財報顯示,中國市場占 2021 年營收 15% 左右,荷蘭中央統計局數據也顯示,中國是荷蘭僅次德國的第二大貿易夥伴。荷蘭外貿和發展合作部長 Liesje Schreinemacher 日前指出,北京是重要貿易夥伴,需權衡利益再走下一步,由於國家安全利益最重要,有經濟利益時再考量地緣政治作用。故美國持續施壓,希望荷蘭、南韓和日本都參與限制出口中國,單邊管制轉為多邊管制。

中央社報導,ASML 浸潤式深紫外光(DUV)微影設備若限制出口中國,中國 45 奈米以下邏輯製程、DRAM、NAND Flash 生產與發展都可能受嚴重衝擊。法人預期,台系廠商台積電、聯電、南亞科及華邦電等台灣半導體廠可望受惠。

(首圖來源:ASML)