半導體微影關鍵材料供應！新應材獲經濟部國家產業創新獎

半導體與顯示器應用化學材料廠新應材，致力半導體微影（Photolithography）材料開發，每年投注約 11% 營業額作為研發經費，為客戶量身開發領先全球的前瞻性創新材料，榮獲經濟部頒發「國家產業創新獎」績優創新企業。

新應材累積近 20 年的自主開發經驗，掌握材料創新技術，提供台灣在地研發、生產製造、技術服務，每年投注約 11% 營業額作為研發經費，為客戶量身開發領先全球前瞻性創新材料，並以持續成長的量產實績逐漸突破本土電子材料供應鏈不足，以因應半導體快速產業需求的困境，成為台灣極少數能提供半導體前段先進製程與後段先進封裝等關鍵化學品材料供應商。

新應材從客戶需求、市場趨勢所需的原物料評估出發，歷經材料開發、整合上下游供應鏈、材料成分/特性驗證、客戶端上線驗證、良率驗證等材料開發程序，一次又一次的送樣、認證循環，並建置與客戶同級的生產與檢測設備，歷經 3~5 年的淬鍊，提供客戶品質穩定的高良率產品，目前開發中的創新產品，包括半導體前段微影製程及先進封裝、CIS 影像感測器及相關光學元件、Micro-LED 等多項關鍵材料，已獲得關鍵客戶認證。

新應材董事長詹文雄表示，適逢新應材邁入 20 週年之際，獲頒國家產業創新獎是一個非常重要的里程碑，未來將透過自主創新設計、快速產品開發、深耕台灣製造，以及即時有效率的客製化服務的經營方針，為台灣半導體材料自主貢獻一份責任。

新應材總經理郭光埌表示，新應材持續創新，提供最有價值的產品，達成客戶與新應材雙贏的成果，展望未來將持續為台灣半導體廠商量身開發更多客製化材料，強化台灣半導體在全球市場持續領先的競爭力。

（首圖來源：新應材）