台灣半導體產業強化布局 EUV 技術,引發南韓三星警戒

作者 | 發布日期 2021 年 09 月 03 日 11:30 | 分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備 Telegram share ! follow us in feedly


相較南韓半導體產業最早開始採用 EUV 曝光技術,台灣相關產業記憶體與晶圓代工時程相對落後。但南韓媒體《BusinessKorea》報導,近期台灣半導體企業加緊投資 EUV 曝光技術,進一步擴大競爭優勢。

目前投資台灣最大外商的美商記憶體大廠美光科技 (Micron),除決定今年底美國總部安裝 ASML 最新曝光設備 NXE: 3600D,美光還計劃在台中 DRAM 工廠安裝相同 EUV 曝光設備。代表美光科技將在台灣生產第一顆 EUV 技術 DRAM,並持續增加投資。

除了美光科技積極部署 EUV 曝光技術,全球 DRAM 產業第排名四大的南亞科技也於 4 月宣布,投資 3,000 億元在新北市興建含 EUV 曝光設備的 DRAM 產線,預計 2024 年量產營運。

晶圓代工龍頭台積電的 EUV 曝光設備產業影響力也有增加。今年第二季起,採用 EUV 曝光設備的 7 奈米及更先進製程技術占公司總營收 49%,正從曝光設備廠商 ASML 採購更多 EUV 曝光設備,增加研發投入。包括台積電自行生產 EUV 光罩,以提升良率和製程效率。

南韓三星是全球首家採用 EUV 曝光技術的半導體企業,並在 2019 年首次量產,如今大規模發展 EUV 技術的還加上美光科技、台積電等台灣半導體企業。南韓市場專家指出,基礎設施持續擴張,預計為台灣半導體產業帶來更強大的競爭優勢。

(首圖來源:科技新報攝)

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